http://uv-curing-global.com/uk/tags/%D0%BD%D1%96/ Recent content in Ні on UV Curing Global Hugo uk Thu, 02 Jul 2026 14:37:34 +0800 http://uv-curing-global.com/uk/posts/uv-lamp-for-non-destructive-test/ Thu, 02 Jul 2026 14:37:34 +0800 http://uv-curing-global.com/uk/posts/uv-lamp-for-non-destructive-test/ <p><img src="http://uv-curing-global.com/images/4c9e492a67b56412ff36b4a4447cefe9.jpg" alt="УФ лампа для недеструктивного тестування"></p> <p>На лінії NDT хибні відхилення та пропущені дефекти зазвичай пов’язані з однією причиною – нестабільним впливом УФ-випромінювання. Максимальна інтенсивність випромінювання коливається; спектральний склад випромінювання також змінюється. Енергія, необхідна для процесу висихання матеріалу, не залишається стабільною. Коли за одну зміну виконується десятки тисяч експозицій, теплова поведінка лампи є критично важливою – саме вона визначає якість всього процесу.</p> <p><strong>Що є важливим з технічної точки зору</strong><br> Ми створили катод із низькою тепловою інерцією, щоб арка швидко стабілізувалась, а температура оболонки не сильно змінювалась під час послідовних експозицій. Це забезпечує стабільні параметри випромінювання: максимум спектру при 365 нм залишається стабільним при значенні ±2% протягом 100 000+ експозицій; максимальна інтенсивність випромінювання становить ≥12 Вт/см² на поверхні оброблюваного матеріалу. Кожна експозиція забезпечує енергію ≥800 мДж/см² протягом 0,3–0,6 секунд – цього достатньо для запуску процесу крос-лінкування фотоініціаторами, без пошкодження самого матеріалу.</p>