<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Фанат on UV Curing Global</title>
		<link>http://uv-curing-global.com/ru/tags/%D1%84%D0%B0%D0%BD%D0%B0%D1%82/</link>
		<description>Recent content in Фанат on UV Curing Global</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 11:26:44 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-global.com/ru/tags/%D1%84%D0%B0%D0%BD%D0%B0%D1%82/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Система вентиляции для охлаждения УФ лампы</title>
				<link>http://uv-curing-global.com/ru/posts/uv-lamp-cooling-fan-system/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 11:26:44 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-global.com/ru/posts/uv-lamp-cooling-fan-system/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-global.com/images/53e5a79b9c4789b57e4bb2caec97aea5.png&#34; alt=&#34;Система вентиляции для охлаждения УФ лампы&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;В печатных станках каждый ватт энергии должен преобразовываться в ценную краску, а не тратиться впустую на нагрев. Если геометрия отражателя не позволяет сфокусировать спектральный излучение лампы, то интенсивность освещения на поверхности материала снижается. Последствия этого мгновенные: снижается скорость печати, происходит неполное связывание компонентов краски, а также снижается её адгезия к поверхности. Если исправить условия освещения, все начнет работать как следует.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что на самом деле определяет процесс UV-отверждения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Процесс UV-отверждения зависит от пиковой интенсивности излучения и плотности энергии, поступающей на поверхность материала. Лампы с высоким давлением ртути излучают свет в длинах волн 365 нм, 385 нм и 405 нм. Фотоинициаторы, используемые в красках для офсетной и флексографской печати, настроены под этот спектр. Отражатель с точно вычисленными эллиптическими контурами и дихроичным покрытием направляет излучение на поверхность материала, одновременно отражая инфракрасное излучение. Это позволяет концентрировать луч и увеличивать количество фотонов на единицу площади.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
