<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Разрушительный on UV Curing Global</title>
		<link>http://uv-curing-global.com/ru/tags/%D1%80%D0%B0%D0%B7%D1%80%D1%83%D1%88%D0%B8%D1%82%D0%B5%D0%BB%D1%8C%D0%BD%D1%8B%D0%B9/</link>
		<description>Recent content in Разрушительный on UV Curing Global</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 14:37:33 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-global.com/ru/tags/%D1%80%D0%B0%D0%B7%D1%80%D1%83%D1%88%D0%B8%D1%82%D0%B5%D0%BB%D1%8C%D0%BD%D1%8B%D0%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>УФ лампа для неразрушающего контроля</title>
				<link>http://uv-curing-global.com/ru/posts/uv-lamp-for-non-destructive-test/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 14:37:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-global.com/ru/posts/uv-lamp-for-non-destructive-test/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-global.com/images/4c9e492a67b56412ff36b4a4447cefe9.jpg&#34; alt=&#34;УФ лампа для неразрушающего контроля&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На линии НДТ некорректные результаты тестирования и упущенные дефекты обычно связаны с одной причиной – нестабильным уровнем излучения УФ-лампы. Пиковая интенсивность излучения меняется, спектральный состав излучения также изменяется. Энергия, необходимая для процесса затвердевания материала, также остается нестабильной. Когда за смену проводится десятки тысяч вспышек, тепловые характеристики лампы становятся критически важными – именно они определяют качество всего процесса.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Мы использовали катод с низкой тепловой инерцией, благодаря чему дуга быстро стабилизируется, а температура корпуса лампы не сильно меняется между вспышками. Это обеспечивает стабильность параметров излучения: пиковая интенсивность на длине волны 365 нм остается стабильной в пределах ±2% на протяжении более 100 000 вспышек. Пиковая интенсивность излучения составляет не менее 12 Вт/см² на поверхности обрабатываемого материала. Каждая вспышка приносит энергию не менее 800 мДж/см² за 0,3–0,6 секунды – этого достаточно для запуска процесса связывания фотоинициаторов без повреждения самого материала.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
