Lampa UV do badań niszczących

Thu, 02 Jul 2026 14:37:34 +0800

Na linii NDT błędne odrzuty i nieodkryte wady wynikają zwykle z jednego problemu: niestabilnego nasłonecznienia UV. Maksymalna intensywność promieniowania jest nierówna, a spektrum emisji zmienia się. Energia potrzebna do utwardzania materiału też nie jest stała. Gdy w ciągu jednej zmiany dokonuje się dziesiątek tysięcy szybkich eksponowań, termiczne zachowanie lampy nie jest już detalowym elementem – to właśnie ono stanowi granicę, przy której musi funkcjonować cały proces.

Co jest istotne pod względem technicznym
Zastosowaliśmy katodę o niskiej inercji cieplnej, dzięki czemu łuk elektryczny szybko się ustalają, a temperatura obudowy nie zmienia się tak znacznie pomiędzy poszczególnymi eksponowaniami. Dzięki temu uzyskujemy stabilną jakość wyjścia: maksymalna intensywność w zakresie 365 nm wynosi ≥12 W/cm², a wartość ta pozostaje stała w przedziale ±2% nawet po 100 000 eksponowaniach. Każde ekspozycje trwa od 0,3 do 0,6 sekundy, a energia dostarczana na powierzchnię materiału wynosi ≥800 mJ/cm² – to wystarcza, aby zapewnić efektywne utwardzanie materiału bez uszkodzenia jego struktury.

Nie on UV Curing Global

Lampa UV do badań niszczących