Lampa UV z galem do druku ceramicznego

Tue, 09 Jun 2026 05:58:51 +0800

Na linii oczyszczania powietrza, krzyżowe zanieczyszczenie mikrobiologiczne nie jest ryzykiem hipotetycznym – to czynnik, który nie pozwala spać w nocy. Lampa UVC to ostatnia linia obrony, a spektrum światła musi być precyzyjnie dopasowane. Standardowe lampy mogą się przesuwać, a gdy dawka nie jest stała, pozostaje albo ograniczyć prędkość linii albo zacząć akceptować odrzuty.

Co naprawdę ma znaczenie „pod maską”

Zaprojektowaliśmy tę lampę UV Gallium wokół wypełnienia parą rtęci domieszkowaną gallem. Efektem jest dominująca linia biobójcza 254 nm z precyzyjną kontrolą spektralną i minimalnym dryftem mocy wyjściowej. Ta mieszanka chemiczna zapewnia wysoki strumień fotonów idealnie na szczycie absorpcji DNA mikroorganizmów, co umożliwia szybkie niszczenie przy krótszym czasie ekspozycji.

Lampa UV na gal wydaną do płyt offsetowych

Mon, 08 Jun 2026 07:26:31 +0800

Na linii offsetu rotacyjnego z szybką prędkością podawania, system UV nie jest dodatkiem — to kluczowy element przepustowości i jakości druku.
Przy 200 m/min pod lampą liczą się milisekundy. Jeśli widmo źródła się przesuwa lub szczytowa irradiancja spada, wierzchnia warstwa farby utwardza się, podczas gdy wnętrze pozostaje niedoutrwalone. To prowadzi do zlepiania, odbić offsetowych i dużej ilości odpadów.

Kluczowe jest dostarczenie energii odpowiadającej chemii farb. Nasza lampa UV Gallium do utwardzania płyt offsetowych wykorzystuje źródło rtęciowe z dopasowanym widmem, skoncentrowanym na aktywacji fotoinicjatorów w formulacjach offsetowych.
Oczekuj stabilnego szczytu w zakresie 365–395 nm, szczytową irradiancję rzędu 600–900 mW/cm² mierzoną na płaszczyźnie podawania oraz gęstość energii utwardzania w zakresie 300–600 mJ/cm² zależnie od gramatury powłoki.

Gal on UV Curing Global

Lampa UV z galem do druku ceramicznego

Co naprawdę ma znaczenie „pod maską”

Lampa UV na gal wydaną do płyt offsetowych