מנורת גאליום UV לצלחת אוף סט

Mon, 08 Jun 2026 07:26:31 +0800

בקו הדפסה ווב אופסט במהירויות גבוהות, מערכת ה-UV אינה פריט משלים. היא השומרת על קצב הייצור ואיכות ההדפסה. במהירות של 200 מ’/דקה, מדובר בזמן חשיפה של מילישניות מתחת לנורה. אם תפוקת הספקטרום נודדת או עוצמת הקרינה השיא יורדת, הדיו מתקשה על פני השטח בעוד שהשכבה הפנימית נותרת לא מוקשה כראוי. התוצאה היא הדבקות של הגליונות, העברת דיו למגנט ולהרבה פסולת. המשמעותי הוא אספקת האנרגיה שתואמת את הכימיה. מנורת הגליום שלנו לריפוי צלחות אופסטית משתמשת במקור אדים כספיים עם תפוקת ספקטרום מותאמת, ממוקדת להפעלת הפוטואיניציאטורים בנוסחות האופסט. יש לצפות לפיק יציב בחלון של 365–395 ננומטר, עוצמת קרינה שיא של 600–900 mW/cm² הנמדדת במשטח הווב, וצפיפות אנרגיית ריפוי בטווח של 300–600 mJ/cm² בהתאם למשקל הציפוי. המחה משתמש בציפוי דיכרואי לעיצוב חזית הקרינה ולחיתוך קרינת IR מיותרת, כך שחלק גדול יותר מהאנרגיה החשמלית שהוזנה יוצא כקרינת UV שימושית. התפוקה נשמרת בטווח של ±3% לאורך אורך הקשת לאחר 1,000 שעות, ובדרך כלל רואים מעל 5,000 שעות לפני סוף החיים, כאשר הירידה בתפוקה נמוכה מ-10%. זו הסיבה לכך שזה עובד בקו הייצור: הפיזיקה בשילוב עם בקרת תהליך ממושמעת. מנורות עם תוספת גליום נותנות תפוקה צפויה וחוזרת, כך שקצב הפעלת הפוטואיניציאטורים נשאר יציב מהגיליון הראשון עד הגלגל האחרון. זה שומר על חיבורים בין השרשרות אחידים, גם כשהמדפסת רצה ב-200 מ’/דקה. התוצאה היא פחות קריעות של הווב, פחות אנרגיה למטר מודפס, ופחות החלפות מנורות. כעת, כמה נקודות שיכולות להכריע את ההצלחה או הכשל. תפוקת הנורה רגישה לטמפרטורת הקוורץ. יש לשמור על פרופיל תרמי יציב של המחה/המנורה – מטרה טמפרטורת דופן המנורה בסביבות 800–900°C לשמירת מיקום הקשת ויציבות ספקטרלית. וכן לבדוק יישור. גם חוסר מיקוד קטן משבש את הפיזור של עוצמת הקרינה ויכול להשאיר את שולי הווב דקים מדי בריפוי. לבסוף, יש לוודא שספיגת הפוטואיניציאטור של הדיו תואמת לאורך הגל של הנורה השליט. אי-התאמה תאלץ להעלות הספק, וזה מקצר משמעותית את חיי הנורה.

צלחת on UV Curing Global

מנורת גאליום UV לצלחת אוף סט